记者会结束后，李一凡直接前往中微公司总部，准备调研公司最新研发进展。

中微公司位于星城半导体产业园，是星城科技创新的标杆企业。在李一凡的大力支持下，中微公司从一家小型科技公司发展成为国内半导体设备领域的领军企业，实现了知识产权的技术突破。

公司创始人尹志尧在门口迎接。作为一位海归科学家，尹志尧拥有丰富的行业经验和国际视野，是中微技术创新的灵魂人物。

“李书记，再次欢迎您来中微指导工作。”尹志尧热情地说，“自从您上次来访后，我们又取得了一些新进展，特别是在28nm光刻机的研发上。”

李一凡微笑着握住尹志尧的手：“尹总，你们的成绩令人振奋。中微是星城科技创新的骄傲，也是国家科技自立自强的重要力量。”

在尹志尧的躯体下，李一凡首先参观了中微的研发中心。这里聚集了数百名顶尖科学家和工程师，进行了尖端技术研究。

在一间特殊的净化实验室内，光刻机事业部总经理——威廉姆斯博士正在调试一台复杂的设备。

“李书记，这就是我们最新研发的28nm光刻机的核心部件——光学系统。”威廉姆斯博士介绍道，“这个系统采用了我们自主研发的纳米精密控制技术，可以将光线聚焦到28nm的精度，是光刻机的‘眼睛’。”

李一凡仔细观察这精密设备，感叹道：“了不起！这么小的精度，相当于人类头发丝直径的几千分之一，技术考量可想而知。”

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威廉姆斯博士自豪地说：“是的，这项技术过去只有荷兰ASML公司和日本的几家企业掌握。我们经过六年攻关，终于取得了突破。这意味着我国在高端半导体设备领域已经迈出了关键一步。”

工作人员，李一凡还参观了中微的生产车间。这里正在组装的是中微最新一代的14nm刻蚀机，已经获得了台积电等国际芯片制造芯片的订单。

“李书记，这台刻蚀机将收到下个月交付台积电。”尹志尧介绍道，“我们已经有了台积电30台设备的订单，总金额超过15亿元。这批中微产品已经达到了国际一流水平，能够在全球市场上与国际企业竞争。”

李一凡对这一成就表示赞赏：“这是中微的骄傲，也是星城的骄傲，更是中国半导体产业的骄傲。我希望中微继续保持创新的劲头，攻克更多‘卡脖子’技术，为国家科技自立自强做出更大的贡献。”

参观结束后，李一凡与中微公司的管理团队进行了座谈。会上，尹志尧汇报了公司的发展战略和面临的挑战。